NP-AFM
NP-AFM是一台纳米分析仪器,用于样品表面粗糙度和样品微尺度分析。主要应用包括工艺开发和技术样品制作的过程控制。
高分辨率视频 |
为扫描样品做精确定位 |
多种样品台 或者 真空吸盘 |
为样品提供最佳方案 |
XY闭环扫描 |
可高精度快速缩放扫描区域 |
探针换置工具 |
大幅减少换探针时间 |
In plane flexure XY scanner |
Minimal out of plane motion in images |
Labview 软件 USB 通讯 |
非常方便适用于各种新系统 |
使用各类探针 |
各类特殊规格探针均可使用 |
NP-AFM Overview
§ NP-AFM是一套完整的纳米分析系统,包括进行扫描样品需要的所有工具:显微镜主机,电控箱,控制计算机,探头,手册和视频显微镜。 NP-AFM系统标准样品尺寸200mm×200mm的×20mm,可选配各类不同大小的样品台。
AFM 纳米分析对象:
– 各种技术样品
– 晶片,磁盘
三个样品台选项,可以适应样品台大小最高 200mm X 200mm X 20mm
内置高分辨率视频显微镜
线性化XY轴压电扫描器
适用于各类标准尺寸探针
包含轻敲模式接触模式,以及横向力和相位模式
实用电动下针模式
试用 LabVIEW-based 软件
使用行业标准的光学杠杆传感器,所有标准扫描模式都为标配,轻敲模式用于高分辨率成像和软样品,接触模式用于日常扫描,相位模式和横向力模式也包含在系统内。
控制软件由LabVIEW编写,非常简单易用。不同的窗口指导用户完成整个过程:预扫描窗口用于原子力显微镜寻找合适区域以及下探针,扫描窗口用于采集图像,力曲线窗口用于测量F / D曲线,最后,一个系统窗口用于修改系统参数。
NP-AFM 适用于各类技术样品(如晶片磁盘)的日常扫描,以及纳米研究.
NP-AFM 性能
晶片分析
原子力显微镜是一个非常高分辨率的分析仪器,它能够对各种经过处理的晶片进行测量,其中包括:
表面形貌的成像 – 通常表面特征的成像可以帮助确认一个过程是否已经有效的完成。 AFM对于在晶圆工艺中经常遇到的超平样品也可以提供极高的对比度。
表面粗糙度/纹理测量 – 原子力显微镜是唯一可以用于纳米级表面粗糙度测量的仪器。加上适当的防震隔音罩,它可以测量表面纹理低至0.1纳米的样品。
台阶高度测量 –原子力显微镜能够用于台阶高度测量,可以测量从0.3纳米至500纳米的台阶高度。标配的高分辨率的视频显微镜用于定位扫描区域
下面是一个例子的测量有图案的使用CMP抛光的晶圆。下面是一个光学显微镜图像的三个测量位置。可见光学显微镜图像中的悬臂;红色的激光用于探针AFM探针光学传感器。测量的位置被确定为1,2和3。
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